我的一九八五第一七四六章 最后定调

“157nm干式光刻机受到波长的限制制程工艺只能达到75nm不如BSEC浸润式光刻机的65nm而且在提高制程工艺方面的难度较大难以满足晶圆厂家对先进制程工艺的要求；157纳米技术还有一个先天的困难由于光波易被吸收需要氟化钙镜头氟化钙是一种新型镜头材料制作难度大每次结晶需要3个月时间并且质量难以控制价格高昂。

我建议公司立即开始研发浸润式光刻机虽然同BSEC和GCA相比已经晚了但极有可能赶上被纯净水介质核心技术专利困扰的ASML。

” 7月18日全球第一条65nm半导体生产线在PGCA量产的消息传到尼康半导体公司上下震动很大虽然尼康157nm干式光刻机随时可以量产但由于制程工艺低于BSEC浸没式光刻机到如今没有晶圆厂家愿意订购ASML浸没式光刻机虽然受到专利困扰没有量产但GCA浸没式光刻机已经量产三家主流光刻机公司走134nm浸没式光刻机路线Nikon和Canon等两家继续走157nm干式光刻机路线但市场已经给出了答案PGCA、TTFAB（曙光东芝）、台联电、Intel和AMD订购了5条BSEC浸没式光刻机构成的导体生产线台积电预定了一条ASML浸没式光刻机构成的导体生产线同为日本半导体协会会员的晶圆公司瑞萨科技和尔必达如今还处于观望之中。

以前支持Nikon研发157nm干式光刻机的芯片龙头Intel见到BSEC浸润式光刻机问世后放弃了对157nm干式光刻机的支持对花费10多亿美元巨资研发157nm干式光刻机的Nikon和Canon造成重大打击。

尼康半导体公司高层争议很大其中以尼康美国研究公司的总裁兼CEO托马斯·诺利克的反对意见最大。

尼康半导体公司如今处于技术发展的十字路口。

力推157nm干式光刻机的前会长如今的顾问吉田一郎召集现任会长兼CEO森佳照明、常务副总裁原田弘树、副总裁兼尼康半导体研究所所长小川郁子、财务副总裁梅根·兰布林和托马斯·诺利克等高层到公司总部商议对策。

托马斯·诺利克首先开炮建议公司立即开始研发浸润式光刻机还有希望赶上主流路线。

吉田一郎在尼康半导体公司担任过社长、会长（董事长）兼CEO等职务在半导体光刻机领域有着深厚的造诣和丰富的经验对尼康半导体业务的发展有着深远的影响虽然退居二线但在公司还有巨大的权威。

尼康美国研究公司是尼康半导体公司的子公司主要从事半导体光刻机相关的研究和开发公司。

“虽然如今157nm干式光刻机的制程工艺低于134nm浸没式光刻机但干式光刻环境相对简单不需要考虑液体介质的纯度、流动性、对光刻胶和晶圆的影响等相关问题工艺控制相对容易设备的维护和保养也相对简单一些；公司在157nm干式光刻路线上投入了近10亿美元巨资掌握了核心技术领先全球虽然暂时处于劣势但我们可以沿着既定的技术路线稳步推进只要能率先研发成功45nm制程工艺的干式光刻机就能一举扭转我们被动的现状继续引领光刻机的发展方向；我们现在重新投入巨资开始研发浸没式光刻机除了一直追赶BSEC和ASML外也将面临BSEC拥有的多项核心技术专利限制如浸没式双工作台系统核心技术专利流体处理系统核心技术专利、折返式投影核心技术专利、纯净水介质核心专利要是BSEC不给我们授权纯净水介质核心专利请问诺利克先生如何解决纯净水介质核心专利难题？” 尼康半导体公司会长兼CEO森佳照明在尼康公司拥有超过25年的经验在美国、欧洲和韩国的销售和营销方面担任过高层深得前会长吉田一郎的赏识。

“会长我听说ASML如今等待BSEC的国际纯净水介质核心专利通过后授权既然BSEC同意授权ASML就会授权我们BSEC当年拿到双工作台系统的国际专利后也授权给了我们。

” “诺利克先生彼一时此一时如今BSEC的技术实力快赶上了我们独霸全球65nm制程工艺的市场份额正是超过我们的最好时机我们不能抱有侥幸心理。

” “我支持会长的意见既然我们已经掌握了多项157nm干式光刻路线的核心技术引领全球我们还要加大投资争取早日研发成功45nm制程工艺就能重新夺回被BSEC抢走的高端芯片市场份额。

” 尼康半导体公司副总裁兼尼康光刻机半导体研究所所长小川郁子负责开发157nm干式光刻机的研发支持森佳照明。

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